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      三維(3D)光柵建模教程
      時(shí)間:2015-08-20 00:09來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      本案例將解釋如何在VirtualLab中進(jìn)行三維光柵建模
       
      本案例所使用的工具箱為光柵工具箱
       
      基于堆棧結構進(jìn)行光柵模擬的光柵工具箱具有兩種類(lèi)型的光柵,分別為二維(2D)光柵和三維(3D)光柵
       
      基于堆棧的光柵元件包含一個(gè)基板(base block),堆棧(stack)則位于基板的邊界上,基板為均勻介質(zhì),下圖為三種類(lèi)型的堆棧-基板結構
       
      建模步驟如下:
       
      1. 進(jìn)入VirtualLab軟件主窗口,通過(guò)解決方案(Solutions)-光柵工具箱(Grating Toolbox)-三維光柵工具箱(3D Grating Toolbox)-一般光柵(General Grating Light Path Diagram),以創(chuàng )建光路流程圖(light path diagram,簡(jiǎn)稱(chēng)LPD)
       
       
      2. 雙擊LPD中的一般三維光柵(General Grating 3D),進(jìn)入光柵編輯窗口
       
      3. (1)在結構/功能(Structure/Function)子窗口中將第一個(gè)光學(xué)界面選擇作為堆棧(Use Stack on First Interface),之后點(diǎn)擊“加載(Load)”進(jìn)入VirtualLab預設堆棧目錄; (2)選擇體光柵(Volume Grating);(3)點(diǎn)擊“編輯(Edit)”進(jìn)入堆棧編輯窗口,如下圖所示
       
       
      (1)

      (2)

      (3)
       
      4. 在VirtualLab中,堆棧的定義是通過(guò)設定兩個(gè)或兩個(gè)以上平行光學(xué)界面之間填充介質(zhì)實(shí)現的,F在我們演示如何在由兩個(gè)光學(xué)界面定義的堆棧中更換填充介質(zhì)。 (1)在光柵堆棧編輯窗口,點(diǎn)擊“加載(Load)”,進(jìn)入介質(zhì)目錄; (2)在柱型介質(zhì)(Pillar Media)中選擇鉻柱(Chromium Pillars)作為光學(xué)界面間的介質(zhì)
       
      (1)
       
      (2)
       
      5. 點(diǎn)擊“編輯(Edit)”進(jìn)入介質(zhì)界面,確認介質(zhì)無(wú)誤后點(diǎn)擊“預覽  ”, 在預覽窗口改變預覽范圍,以便于清晰展示折射率分布
       
      (1)

      (2)

      (3)
       
      6. 將堆棧的兩光學(xué)界面間距離改為1um,同時(shí)改變堆棧周期(Stack Period),如下圖所示
       

       
      7. 要使用傅里葉模態(tài)法(Fourier Modal Method,簡(jiǎn)稱(chēng)FMM)進(jìn)行光柵模擬,需要將用于描述光柵的介質(zhì)折射率分布,即 ,離散化。在VirtualLab中,離散化是通過(guò)設置分立的折射率轉變點(diǎn)(transition points)實(shí)現的。下面調整介質(zhì)折射率離散化相關(guān)的數值設置,進(jìn)入傳播(Propagation)子窗口中,選擇高級設置(Advanced Settings),在轉變點(diǎn)離散化(Transition Point Decomposition)下使用默認的精確因子(Accuracy Factor)為1,進(jìn)行離散化預覽(Decomposition Preview),然后將精確因子調整到3,然后再次進(jìn)行離散化預覽
       
      (1)
       
      (2)
       
      (3)
       
      PS:通過(guò)提高精確因子,增加了取樣點(diǎn)數,可以看出光柵結構的分辨率更高,因此可以更精確的模擬光柵結構,但同時(shí)也需要耗費更多的計算時(shí)間
       
      8. 配置傅里葉模態(tài)法(FMM),在傳播方法(Propagation Methods)標簽下,點(diǎn)擊”編輯”(Edit)進(jìn)入FMM配置窗口,選擇衍射級數目(Number of Diffraction Orders)。衍射級數目表示使用FMM方法時(shí)所考慮計算的衍射級次總數。
       
       
      9. 如何選擇衍射級數目?新建參數遍歷(New Parameter Run),將衍射級數目設置為變量,逐步增加衍射級數目,使用光柵衍射效率分析器(Grating Efficiency Analyzer)確定要獲得真實(shí)可信的結果(衍射效率達到收斂時(shí))所需要用到的衍射級數目。操作如下圖:
       
       
      (1)

      (2)

      (3)

      (4)

      (5)
       
      PS:由反射率和迭代步數之間的曲線(xiàn)圖可以看出,當衍射級次數為21時(shí),計算的結果趨于穩定,即結果收斂
       
      10. 調整衍射級數目,進(jìn)入光柵編輯窗口中的傳播(Propagation)子界面,將X和Y方向上的的衍射級數目都改為21
       

      11. 進(jìn)行近場(chǎng)計算,通過(guò)點(diǎn)擊Go! ,計算光柵的透射場(chǎng)和反射場(chǎng)   
       
      左邊為以鉻介質(zhì)構建的三維光柵透射場(chǎng),右邊為反射場(chǎng)
       
      12. 光柵效率計算,雙擊 ,進(jìn)入光柵衍射效率分析器(Grating Efficiency Analyzer (3D)),設置如下
       
       
      13. 將模擬類(lèi)型改成光柵衍射效率分析器,點(diǎn)擊Go,開(kāi)始進(jìn)行光柵效率計算
        
      光柵衍射效率分析器計算結果:左邊為透射效率,右邊為反射效率
       
      三維光柵總的反射效率,透射效率以及吸收率
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