內容簡(jiǎn)介：
1.在VirtualLab中如何進(jìn)行結構設計；
2.在VirtualLab中如何導入和導出加工數據。
結構設計
1) 點(diǎn)擊  ，打開(kāi)示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2
2) 該示例文件包含處處振幅為1的純粹的相位分布，默認為振幅視圖. 點(diǎn)擊  ，將默認的振幅視圖轉換為相位視圖，點(diǎn)擊“結構設計(Structure Design)”開(kāi)始設計可產(chǎn)生該相位分布的對應結構
3) 進(jìn)入(基于薄元近似)的純相位透射結構設計系統窗口
目標(Target)標簽，可以選擇將設計好的結構設計元件放在新的LPD中還是已有的LPD中
光學(xué)設置(Optical Setup)標簽，在此標簽中選擇模式為透明板的高度輪廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可選擇基板介質(zhì)(Substrate Medium)和元件周?chē)慕橘|(zhì)(Surrounding Medium)，同時(shí)可以確定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波長(cháng)（Wavelength）。
光學(xué)界面參數(Interface Parameters)標簽，在相位展開(kāi)模式(Unwrapping Mode)中選擇不展開(kāi)(None)，以及不進(jìn)行強制分層(Enforce Quantization),即不產(chǎn)生離散界面，并選擇像素化的高度輪廓（最臨近點(diǎn)插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]對取樣光學(xué)界面進(jìn)行插值
4) 完成結構設計，在新的LPD中設計好的結構已經(jīng)包含在名為“Generated Structure Design Component”的元件中
導出加工數據
1) 在LPD中雙擊生成的元件，可見(jiàn)設計好的結構是以雙界面元件(Double Interface Component，簡(jiǎn)稱(chēng)DIC)的形式保存的，而高度輪廓以取樣光學(xué)界面（Sampled interface）的形式保存，點(diǎn)擊編輯(Edit)
2) 進(jìn)入取樣光學(xué)界面的編輯(Edit Sampled Interface)窗口，在結構(Structure)標簽上，選擇臨近點(diǎn)插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法進(jìn)行高度輪廓插值，并進(jìn)行3D預覽
3) 在取樣光學(xué)界面預覽(Preview of Sampled Interface)中，點(diǎn)擊鼠標右鍵，選擇精度(Accuracy)，將界面取樣精度設置為5，提高取樣光學(xué)界面的顯示精度
4) 進(jìn)入界面高度離散化(Height Discontinuities)標簽，將離散高度階數(Discrete Height Levels)設置為8，通過(guò)工具(Tools)中的導出(Export)生成可用于光學(xué)界面加工的數據
5) 進(jìn)入光學(xué)界面數據導出窗口
在一般(General)標簽進(jìn)行如下圖所示的設置
在輸出參數(Export Parameters)標簽上選擇默認參數設置
在GDSII/CIF標簽上選擇默認設置，并點(diǎn)擊Export導出加工數據
導出加工數據列表
導入加工數據
1) 點(diǎn)擊  ，新建一個(gè)LPD，在LPD中選取單光學(xué)界面(Single Optical Interface)元件，以下簡(jiǎn)稱(chēng)SOI
2) 雙擊SOI，進(jìn)入其編輯窗口，點(diǎn)擊加載(Load)
3) 導入取樣光學(xué)界面(Sampled Interface)
4) 點(diǎn)擊編輯(Edit)，進(jìn)入取樣光學(xué)界面編輯窗口，導入加工數據
5) 打開(kāi)文件夾中的.xml文件，導入加工文件
6) 導入完成，觀(guān)察3D視圖
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