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      受粗糙光柵表面影響的光柵級次效率分析
      時(shí)間:2016-06-29 22:40來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      該案例介紹了一個(gè)正弦光柵的仿真,該光柵表面具有隨機變化的粗糙度結構。此外,分析了對衍射級次的影響,特別是衍射效率。

      1. 建模任務(wù)


      一個(gè)正弦光柵不同衍射級次的嚴格分析和優(yōu)化。
      對于該仿真,采用傅里葉模態(tài)法。
       
      2. 建模任務(wù):正弦光柵

      x-z方向(截面視圖)


      光柵參數:
      周期:0.908um
      高度:1.15um
      (這些參數提供了一個(gè)具有均勻分布傳輸效率0級和±1級衍射級次,詳見(jiàn)案例341)

      3. 建模任務(wù)



      VirtualLab光柵工具箱提供的光柵級次分析器,可對光柵衍射效率進(jìn)行嚴格的計算。
       
      利用該分析器,也可以分別計算出現的每個(gè)衍射級次的衍射效率。



      4. 光滑結構的分析


      計算衍射效率后,結果可在級次采集圖中顯示。
      對于光滑結構,參數平穩,0級和±1衍射級次的傳輸效率大約為32%



      5. 增加一個(gè)粗糙表面

      VirtualLab光柵工具箱可將兩個(gè)界面進(jìn)行組合(如添加)。
      因此任意光柵形狀(如正弦光柵)可以與粗糙表面組合,形成粗糙光柵面型。





      該粗糙面有可通過(guò)幾個(gè)選項來(lái)實(shí)現表面的變化(如周期化)。
      第一個(gè)重要的物理參數稱(chēng)為”最小特征尺寸”。
      第二個(gè)重要的物理參數是定義”總調制高度”。
       


      6. 對衍射級次效率的影響

      粗糙度參數:
      最小特征尺寸:20nm
      總的調制高度:200nm
      高度輪廓



      效率


      粗糙表面對效率僅有微弱的影響

      粗糙度參數:
      最小特征尺寸:20nm
      總調制高度:400nm
      高度輪廓



      效率

      由于粗糙表面的總調制高度變大,±1級衍射效率發(fā)生輕微不對稱(chēng)。

      粗糙度參數:
      最小特征尺寸:40nm
      總調制高度:200nm
      高度輪廓



      效率


      更大的”最小特征尺寸”降低了0級衍射的透射效率。

      粗糙度參數:
      最小特征尺寸:40nm
      全高度調制:400nm
      高度輪廓



      效率



      對于較粗糙的表面,0級衍射效率大幅降低,而且±1級衍射效率的不對稱(chēng)性增大。
       
      7. 總結
      VirtualLab的光柵工具箱可對任意形狀光柵結構進(jìn)行嚴格分析(如包含一個(gè)附加粗糙面的正弦光柵)。
      對于這種類(lèi)型的分析,VirtualLab中采用全矢量傅里葉模態(tài)法。
      光柵級次分析器能夠計算全部或特定衍射級次的衍射效率。
      利用VirtualLab光柵工具箱,光柵表面的粗糙度可被加以考慮。因此,由于加工引起的結構差異產(chǎn)生的影響可被估算。

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