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      空間光調制器像素處光衍射的仿真
      時(shí)間:2016-11-24 20:12來(lái)源:未知作者: infotek點(diǎn)擊:次打印
      空間光調制器(SLM.0002 v1.1)
       
      應用示例簡(jiǎn)述
       
      1. 系統細節
      光源
      高斯光束
      組件
      反射型空間光調制器組件及后續的2f系統
      探測器
      視覺(jué)感知的仿真
      電磁場(chǎng)分布
      建模/設計
      場(chǎng)追跡:
      一個(gè)SLM像素陣列處光傳播的仿真,仿真中包括了SLM像素間無(wú)功能間隔引起的衍射效應。
       
      2. 系統說(shuō)明
       
       
      3. 模擬 & 設計結果
       
      4. 總結
       
      考慮SLM像素間隔來(lái)研究空間光調制器的性能。
       
      第1步
      將像素間隔引入到一個(gè)先前設計的用于光束整形的SLM透射函數。
       
      第2步
      分析不同區域填充因子的對性能的影響。
       
      產(chǎn)生的衍射效應對SLM的光學(xué)功能以及效率具有重大影響。
       
      應用示例詳細內容
       
      系統參數
       
      1. 該應用實(shí)例的內容
       
       
      2. 設計&仿真任務(wù)
       
      由于制造和技術(shù)的原因,像素之間存在非功能間隔。這種典型的間隔會(huì )產(chǎn)生衍射效應,從而影響SLM的光學(xué)性能,并在接下來(lái)的工作中對其進(jìn)行研究。
       
      3. 參數:輸入近乎平行的激光束
       
       
      4. 參數:SLM像素陣列
       
       
      5. 參數:SLM像素陣列
       
       
      應用示例詳細內容
       
      仿真&結果
       
      1. VirtualLab能夠模擬具有間隔的SLM
      由于可以嵌入組件,VirtualLab可以輕松的實(shí)現反射系統(如反射鏡,2f系統等)。
      內置的SLM模式可以實(shí)現從簡(jiǎn)單透射函數到包含像素和間隔的陣列的自動(dòng)轉換。
       
      2. VirtualLab的SLM模塊

      為設置像素陣列,必須輸入像素陣列尺寸和區域填充因子。
      必須設置所設計的SLM透射函數。因此,需要輸入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路徑。
       
      3. SLM的光學(xué)功能
       
      在第一步,我們可以研究SLM后的電磁場(chǎng)。
      為此,將區域填充因子設置為60%。
      首先,獲得場(chǎng)(Ex方向)的振幅,分別顯示了SLM像素及其間隔的影響。
       
      所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd
       
      此處,場(chǎng)(Ex方向)的(Wrapped)位相如下圖所示,其中所有的間隔的相位值都為一個(gè)常數值。
       
      所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd
       
      4. 對比:光柵的光學(xué)功能
      上述的像素效應可以用相似光學(xué)功能的2D周期結構的進(jìn)行比較。
      所示函數(Ex的振幅)相當于一個(gè)SLM,其像素提供一個(gè)常數位相函數。
      通過(guò)這種光柵,能夠將光衍射到幾個(gè)衍射級次,衍射級次分布在x-和y-方向(由于二維光柵結構)。
      級次越高振幅衰減越快,所以只有0級,1級以及2級貢獻了主要的光強部分。
      這意味著(zhù),對于SLM,我們所期望的光分布具有有較高的級次,其光強由區域填充因子決定。

      所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd
       
      5. 有間隔SLM的光學(xué)功能
      現在,基于像素陣列的區域填充因子,我們可以在傅里葉平面研究SLM的光學(xué)功能。
       
      所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd
       
      下圖顯示了(Ex方向)光強分布,圖中具有相同的振幅比率。
       
       
      6. 減少計算工作量
       

       
      采樣要求:
      至少1個(gè)點(diǎn)的間隔(每邊)。
      如在有效區域,用戶(hù)指定60%區域填充因子,模塊在激活區域計算5×5點(diǎn)的等間距采樣。
       
      采樣要求:
      同樣,至少1個(gè)點(diǎn)的間隔。
      假設指定90%區域填充因子,模塊計算25×25點(diǎn)的等間距采樣。
      隨填充因子的增大,采樣迅速增加。
       
      為優(yōu)化大填充因子條件下的計算工作量,減小相關(guān)陣列尺寸是非常有效的方法。
      如果被照明區域小于陣列尺寸(標記區域包含光強的90%),這種簡(jiǎn)化是非常適用的。
      如果只考慮標記的范圍,僅計算SLM的320×320個(gè)像素即可(SLM模塊自動(dòng)刪除了透射函數邊界)。
      通過(guò)優(yōu)化,計算工作量減少了4.7倍。
       

       
      減小SLM陣列尺寸后計算所得的振幅分布幾乎和全陣列一樣。
       
      7. 指定區域填充因子的仿真
       
      由于間隔非常狹窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子為98%,需要更多的采樣點(diǎn)進(jìn)行計算。
      全陣列尺寸798×600像素將需要79992×60600個(gè)采樣點(diǎn),需要極高的計算量。
      因此,可適當減小陣列尺寸到320×320像素,采樣點(diǎn)數目為32320×32320。
      在優(yōu)化的幫助下,可對指定區域填充因子進(jìn)行研究(該仿真仍需約256GB的內存)。
       

      8. 總結
      考慮SLM像素間隔來(lái)研究空間光調制器的性能。
       
      第1步
      將像素間隔引入到一個(gè)先前設計的用于光束整形的SLM透射函數。
       
      第2步
      分析不同區域填充因子的對性能的影響。
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