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      設計和分析GRIN擴散器
      時(shí)間:2017-07-21 19:08來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      案例563(1.0)
       
      1.建模任務(wù)
       
      這個(gè)案例將演示設計與分析一個(gè)折射率調制的擴散器圖層以生成Top Hat圖案。
      設計包括兩個(gè)步驟:
      - 設計相位函數來(lái)生成一個(gè)角譜Top Hat分布。
      - 基于相位調制來(lái)計算對應的折射率調制。
      如果想要更詳細的解釋設計和分析步驟,請參見(jiàn)教程Tut565。
       
       
      照明光束參數

      波長(cháng):632.8nm
      激光光束直徑(1/e2):700um
       
      理想輸出場(chǎng)參數
       
       
      直徑:1°
      分辨率:≤0.03°
      效率:>70%
      雜散光:<20%
       
      2. 設計相位函數

      相位的設計請參考會(huì )話(huà)編輯器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和優(yōu)化文檔Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp
      設計沒(méi)有離散相位級的phase-only傳輸。
       
      3.計算折射率調制
       
       
      最大折射率調制
      △n=+0.05
      如果是GRIN層,那么厚度:12.656um
      折射率調制假設與相位調制成正比(薄元近似)。
      為得到細節請參見(jiàn)教程Tut565。
      優(yōu)化系統文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。
       
      4.模擬結果
       
      角強度分布
      (參見(jiàn)Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)
       
      5.結論
      VirtualLab Fusion支持設計GRIN衍射光學(xué)元件和全息圖。
      優(yōu)化的GRIN元件可以生成任意二維強度分布。
      可以模擬通過(guò)x/y平面上任意調制的介質(zhì)中的光傳播。
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