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      光源的配置
      時(shí)間:2017-08-18 16:48來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      示例.0012(1.0)
       
      關(guān)鍵詞:LED,激光,諧波場(chǎng),諧波場(chǎng)設置,光譜,脈沖,偏振
       
      1. 描述
       
      通過(guò)該案例,介紹如何配置光源來(lái)模擬在一個(gè)平面上的不同輻射。
      在一般的VirtualLab中,區分了相干光源模型和部分相干光源模型。
      橫向和光譜輻射特性可以通過(guò)以下方式進(jìn)行定義:
      預設公式
      測量數據
      用戶(hù)自定義的公式
      光源沒(méi)有輸入且只有一個(gè)輸出通道。
      VirtualLab中,除了激光諧振器工具箱外,光源內部的處理不做仿真。
       
      2. 光路圖中的光源


       
      3. 光源-基本參數



      通過(guò)基本參數表可以配置光源的所有共性參數。
      可以輸入一個(gè)距離光源平面的橫向偏移和距離。
      用戶(hù)可以直接定義光源后的介質(zhì)。
      支持以下附加配置:
      場(chǎng)尺寸
      場(chǎng)形狀(矩形,橢圓)
      邊緣寬度(切趾)
       
      4. 光源-場(chǎng)尺寸和形狀
       
      大多數分析的光分布都是無(wú)限擴展的
      對于計算機,所有的光分布必須是有限擴展的。
      VirtualLab中引入了場(chǎng)尺寸、場(chǎng)形狀和邊緣寬度(切趾)的概念,
      通過(guò)在場(chǎng)邊緣使用高斯切趾減小數值誤差。
      場(chǎng)尺寸可自動(dòng)定義也可手動(dòng)定義。
      此外,提出的場(chǎng)尺寸可以通過(guò)場(chǎng)尺寸因子進(jìn)行更改。

       
      5. 光源-空間參數



      在空間參數頁(yè)面,用戶(hù)可以定義橫向分布的附加參數。
       
      空間參數的具體內容是根據光源配置決定的。
       
      6. 光源-偏振


      在偏振表中,用戶(hù)可以定義光源的偏振特性。
      以下偏振類(lèi)型可用:
      線(xiàn)性偏振(輸入到X軸的角度)
      圓偏振(左旋或右旋偏振)
      橢圓偏振(定義偏振橢圓)
      一般的(輸入瓊斯矩陣)
      偏振最終是以瓊斯矩陣來(lái)表示的。
       
      7. 光源-光譜參數


      用戶(hù)可以在3種不同的的模式中選擇
      單波長(cháng)(單色仿真)
      三波長(cháng)(三個(gè)波長(cháng),并通過(guò)權重進(jìn)行定義)
      波長(cháng)列表(帶權重的波長(cháng)列表,通過(guò)圖表或ASCII導入)
      如果是可見(jiàn)光則結果顯示為色彩,否則為黑色。
       
      8. 光源-光譜生成器


       
      在光源工作區內有幾種生成器,可用于定義光源和脈沖的光譜
      生成的數據陣列可以表示光譜信息,并可導入光源。
       
      9. 光源-采樣

      在采樣選項卡中,用戶(hù)可以定義用于生成場(chǎng)的采樣參數。
      在VirtualLab中提供了一個(gè)默認的自動(dòng)采樣模型,該模型已能夠滿(mǎn)足大部分情況的需要。
       
       
      自動(dòng)采樣建議可以使用采樣因子來(lái)修改
      如果需要,用戶(hù)也可以手動(dòng)定義采樣。
      手動(dòng)模式下,用戶(hù)可以選擇修正采樣點(diǎn)數量或者采樣距離。
      嵌入因子用來(lái)在數據點(diǎn)附近引入零填充。
      因此,輸入平面上用于表示光源的整體尺寸通過(guò)下式定義:



      數組通過(guò)以下定義:
      warray—>數組尺寸
      wfield size—>場(chǎng)尺寸
      wedge width—>絕對邊緣寬度
      ∆x —>采樣距離
      Nembedding—>采樣點(diǎn)處嵌入窗口寬度
       
      10. 光源-光線(xiàn)選擇



      用戶(hù)可以定義產(chǎn)生的光線(xiàn)的數量和模式(用與光線(xiàn)追跡)
      支持以下光線(xiàn)模式:
      x-y –網(wǎng)格(在x和y上的等距網(wǎng)格)
      六角形(定義光線(xiàn)的密度)
      隨機的(隨機分布的光線(xiàn)數量)
       
      11. 光源-模式選擇



      對于部分相干光模式,該模式的位置和權重可以在模式選項卡中定義。
      對于所有的光源,用戶(hù)可以修改模式并生成光源。
      此選項僅可用于產(chǎn)生模式的一個(gè)子集以來(lái)檢測光源和系統的總體性能。
       
      12. 在主窗口中生成光源 

      也可以在主菜單中引入一個(gè)光源生成器生成諧波場(chǎng)(光源設置)。
      對于基本光源,可以指定單色或多色的不同相干光源。


       
      對于部分相干光模式,主窗口中也有可用的生成器。
      這些光源可以用于,如仿真LED,受激準分子激光器和多模激光器仿真
       
      13. 總結
       
      VirtualLab中的光源生成器不僅應用非常靈活,而且界面友好,易于定義用于進(jìn)一步的模擬或操作的光源場(chǎng)。
      通過(guò)標準的方式指定光源所有參數,使用戶(hù)對使用的概念更加熟悉,并可通過(guò)相同的步驟配置所有光源。
      VirtualLab中不僅可以模擬基本光源(如球面場(chǎng)、平面場(chǎng)以及高斯光場(chǎng))也可模擬部分相干光源(仿真LED,受激準分子激光器和多模激光器)。
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