摘要
光柵結構廣泛用于多個(gè)應用，如光譜儀、近眼顯示系統等。通過(guò)應用傅里葉模態(tài)方法（FMM），VirtualLab Fusion以一種簡(jiǎn)單的方法提供了任意光柵結構的嚴格分析。在光柵軟件包中，通過(guò)使用堆棧中的多個(gè)界面或/和介質(zhì)可以配置光柵結構。用于設置堆棧的幾何結構的用戶(hù)界面是友好型的，可以用于產(chǎn)生更加復雜的光柵結構。在這個(gè)用例中，解釋了基于特殊介質(zhì)光柵結構的配置。
該用例展示了…
在光柵工具箱中通過(guò)使用特殊介質(zhì)如何配置光柵結構，如：
傾斜光柵介質(zhì)
體光柵介質(zhì)
如何在計算前改變高級選項&檢查定義的結構
光柵工具箱初始化
初始化
開(kāi)始->
光柵->
通用光柵光路圖
注意：對于特殊類(lèi)型光柵的使用，如體光柵，可以直接選擇特定的光路圖
光柵結構設置
首先，需要定義基底（底座）材料和厚度
在VirtualLab中，光柵結構在所謂的堆棧中定義
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這個(gè)例子中，第一個(gè)界面上的堆棧已經(jīng)選中
堆棧編輯器
堆棧編輯器
涂層傾斜光柵介質(zhì)
在目錄分類(lèi)“LightTrans定義”中，可以找到涂層傾斜光柵介質(zhì)。
這種類(lèi)型的介質(zhì)可以使用具有或不具有額外涂層的傾斜光柵結構
在這個(gè)例子中，由熔融石英制成的光柵（具有含鉻的涂層）位于玻璃基質(zhì)上
在堆棧編輯器視圖中，不同的材料由基于他們折射率的其他顏色顯示（暗色意味折射率高）
涂層傾斜光柵介質(zhì)
涂層傾斜光柵介質(zhì)
堆棧周期允許控制整個(gè)配置的周期
該周期同樣用于FMM算法的周期性邊界條件
在簡(jiǎn)單光柵結構的案例中，推薦選擇選項“根據介質(zhì)周期“和選擇周期性介質(zhì)合適的折射率
涂層傾斜光柵介質(zhì)參數
涂層傾斜光柵介質(zhì)參數
高級選項&信息
在傳輸菜單中，多個(gè)高級選項可用
傳輸方法標簽允許編輯FMM算法的精確設置
可以設置考慮的總級數或倏逝級數的數量
這可能是有用的，如果考慮金屬光柵
相比之下，在電介質(zhì)光柵中，默認設置已經(jīng)足夠
高級選項&信息
高級選項標簽提供了結構分解的信息
層分解和過(guò)渡點(diǎn)分解設置可用于調整結構的離散化，默認設置適用于幾乎所有的光柵結構
更多地，提供了關(guān)于層數和過(guò)渡點(diǎn)的信息
分解預覽按鈕提供了用于FMM計算的結構數據的描述，折射率由顏色尺度描述
高級選項&信息
高級選項&信息
體光柵介質(zhì)
另一種用于光柵配置的介質(zhì)類(lèi)型是體光柵介質(zhì)
界面允許配置折射率的調制，這由全息曝光產(chǎn)生
同時(shí)，兩個(gè)平面界面作為介質(zhì)的邊界
體光柵介質(zhì)參數
為了描述體光柵，VirtualLab模擬了一定數量刻蝕波的干涉圖案
首先，需要選擇全息介質(zhì)，這提供了初始折射率
其次，折射率調制的周期和取向由入射角（α）和信號波的參考波長(cháng)控制
更多地，根據入射角引入量化的波矢空間，數值計算量可以顯著(zhù)的減少（也可以查閱更多關(guān)于體光柵的文件）
體光柵介質(zhì)參數
高級選項&信息
高級選項&信息
在探測器位置處的備注
在VirtualLab中，探測器默認位于空氣中基底的后面
如果光柵包含在復雜的光學(xué)裝置中，這是必要的
然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效應，這在現實(shí)中不會(huì )發(fā)生
因此，對于合理的光柵效率的計算，在基質(zhì)材料中設置探測器是合適的（正如大多數光柵評估軟件）
這避免了這些干涉效應的不必要的影響
文件信息
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