摘要
VirtualLab可用于分析任意光柵類(lèi)型。斜光柵在復雜光學(xué)系統中已經(jīng)可以實(shí)現，并且其重要性在提高。斜光柵通過(guò)特殊光學(xué)介質(zhì)實(shí)現，以此定義其一般性的幾何結構。而且，幾個(gè)高級規格選項可用，例如，添加一個(gè)完整和部分涂層。這個(gè)案例解釋了配置的可用選項，并且討論了其對光柵結構的影響。
介質(zhì)目錄中的斜光柵介質(zhì)
內置斜光柵介質(zhì)可以在VirtualLab的嵌入的介質(zhì)目錄中找到。
可用于設置復雜光學(xué)光柵結構（所謂的堆棧）和傅里葉模式法（FMM）分析。
斜光柵介質(zhì)的編輯對話(huà)框
斜光柵介質(zhì)為周期性結構自定義提供很多選項。
首先，光柵脊和槽的材料必須在基礎參數選項中定義。
這些材料既可以從材料目錄選擇，也可以通過(guò)折射率定義。
斜光柵介質(zhì)的編輯對話(huà)框
在材料設置下面，可以定義光柵的幾何結構。
以下參數可用：
- 填充率（定義光柵的上部分和下部分）
- z擴展（沿著(zhù)z方向測量光柵高度）
- 傾斜角度左（脊左側的傾斜角）
- 傾斜角度右（脊右側的傾斜角）
如果傾斜角相同，通過(guò)點(diǎn)擊不等號關(guān)聯(lián)兩個(gè)設置。
斜光柵介質(zhì)的編輯對話(huà)框
為了添加可配置的涂層，必須激活應用涂層（Apply Coating）選項。
現在，額外的選項和結構的圖形一起顯示。
斜光柵介質(zhì)的編輯對話(huà)框
首先，必須選擇涂層材料。
同樣地，材料可以從材料目錄中選擇，也可以通過(guò)折射率定義。
接著(zhù)，分別配置每個(gè)側壁，頂壁和底壁的涂層厚度，如草圖所示。
斜光柵的編輯對話(huà)框
由于斜光柵由介質(zhì)定義，必須在周期選項中設置周期。
由于用這個(gè)特別的介質(zhì)來(lái)設計光柵，因此常常配置為周期性。
堆棧使用的評論
為了使用光學(xué)堆棧里的介質(zhì)，有必要定義兩個(gè)作為介質(zhì)邊界的表面。
一般來(lái)說(shuō)，界面之間的距離必須手動(dòng)設置。
對于斜光柵介質(zhì)，介質(zhì)高度（z方向）直接定義在介質(zhì)配置中。
因此，表面之間的距離自動(dòng)與斜光柵介質(zhì)z擴展同步。
斜光柵介質(zhì)的采樣配置
斜光柵介質(zhì)采樣
接下來(lái)的幻燈片展示了一些選中的斜光柵介質(zhì)案例。
在每個(gè)幻燈片的左邊，編輯對話(huà)框展示了相關(guān)參數。
在右邊，顯示了介質(zhì)的預覽。
介質(zhì)預覽可以通過(guò)對話(huà)框部分底部的預覽按鈕獲得。
采樣斜光柵#1
采樣斜光柵#2
采樣斜光柵#3
采樣斜光柵#4
文檔信息
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