高NA物鏡聚焦的分析

摘要

 

高NA物鏡廣泛用于光學(xué)光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進(jìn)行光線(xiàn)追跡和場(chǎng)追跡分析非常方便。通過(guò)場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對稱(chēng)焦斑，這源于矢量效應。相機探測器和電磁場(chǎng)探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶(hù)深入了解矢量效應。

 

 

建模任務(wù)

 

概觀(guān)

 

光線(xiàn)追跡仿真

 

•首先選擇“光線(xiàn)追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。

 

光線(xiàn)追跡仿真

 

 

 

場(chǎng)追跡仿真

 

 

 

場(chǎng)追跡結果（攝像機探測器）
 

場(chǎng)追跡結果（電磁場(chǎng)探測器）

 

文件信息

 

 

更多閱覽
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- Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination