分析高數值孔徑物鏡的聚焦

摘要

 

高數值孔徑物鏡廣泛用于光學(xué)光刻、顯微鏡等。因此，在聚焦模擬中考慮光的矢量性質(zhì)是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持這種鏡頭的光線(xiàn)和光場(chǎng)追跡分析。 通過(guò)光場(chǎng)追跡，可以清楚地展示不對稱(chēng)焦斑，這源于矢量效應。 照相機探測器和電磁場(chǎng)探測器為聚焦區域的研究提供了充分的靈活性，并且可以深入了解矢量效應。


 

建模任務(wù)

 

入射平面波

波長(cháng) 2.08 nm

光斑直徑： 3mm

沿x方向線(xiàn)偏振

 

如何進(jìn)行整個(gè)系統的光線(xiàn)追跡分析？

如何計算包含矢量效應的焦點(diǎn)的強度分布？

 

概覽

•樣品系統預設為包含高數值孔徑物鏡。

•接下來(lái)，我們將演示如何按照VirtualLab中推薦的工作流程對樣本系統進(jìn)行模擬。
 

   

光線(xiàn)追跡模擬

•首先選擇“光線(xiàn)追跡系統分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為模擬引擎。

•點(diǎn)擊Go！

•獲得3D光線(xiàn)追跡結果。

  

光線(xiàn)追跡模擬

•然后，選擇“光線(xiàn)追跡”（Ray Tracing）作為模擬引擎。

•單擊Go！

•結果，獲得點(diǎn)圖（2D光線(xiàn)追跡結果）。

 

 

光場(chǎng)追跡模擬

•切換到“第二代場(chǎng)追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為模擬引擎。

•單擊Go！

 

 

光場(chǎng)追跡結果（照相機探測器）

 

•上圖僅顯示Ex和Ey場(chǎng)分量的強度。

•下圖通過(guò)整合Ex、Ey和Ez分量顯示強度：由于高數值孔徑情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱(chēng)性。

 

  

 

光場(chǎng)追跡結果（電磁場(chǎng)探測器）

 

•通過(guò)使用電磁場(chǎng)探測器獲得所有電磁場(chǎng)分量。

  

 

文件信息

 

 

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