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      VirtualLab Fusion應用:不規

      錐形相位掩模的Talbot像
      時(shí)間:2020-11-18 09:20來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      摘要
       
      在傳統的Talbot光刻中,在光敏層中僅使用一個(gè)圖像,但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。在此示例中,遵循I.-H. Lee等人的工作,通過(guò)傅立葉模態(tài)法(FMM,也稱(chēng)為RCWA)在VirtualLab Fusion中對具有一層圓錐體的相位掩模進(jìn)行了建模。探測得到不同的Talbot像,柱狀圖位于主像面上,孔狀圖位于次像面上。

       
      建模任務(wù)

      結構和材料參數來(lái)自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
       
      某一位置的Talbot圖樣

        
      某一位置的Talbot圖樣

       
      不同位置的Talbot圖樣

       
      不同位置的Talbot圖樣

       
      沿Z軸的強度

       
      走進(jìn)VirtualLab Fusion

       
      VirtualLab Fusion的工作流程
       
      構建光柵結構
      - 用特殊介質(zhì)構造光柵結構 [用例] 
      - 超穎光柵構建 – 示例討論 [用例] 
       
      通過(guò)參數運行計算不同位置的強度
      - 參數運行文件的使用 [用例] 
       
       
      VirtualLab Fusion技術(shù)

        
      文件信息

       
      延伸閱讀
      - 超稀疏介質(zhì)納米線(xiàn)柵偏振片
      - 光柵級次分析器
      - Talbot效應的建模
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