1. 摘要
為了控制用于 AR/MR 應用的光導設備的均勻性和效率，有必要在某些區域，例如 在擴展和輸出耦合光柵區域，引入變化的光柵參數，例如填充因子或光柵高度值。
為此，VirtualLab Fusion 能夠在一個(gè)區域內引入平滑變化的光柵參數，其中可以以非常不同的方式配置所需的變化。 這還包括一個(gè)工具，用于研究針對特定入射條件和光柵參數提供的衍射效率。 這個(gè)例子解釋了如何應用這些工具。
2. 建模任務(wù)的說(shuō)明
在光導上引入連續調制的光柵參數（例如，填充因子）。
3. 帶有附加引導的常規工作流程
起點(diǎn)是一個(gè)現有的、可執行的光導系統，它具有基本的幾何配置（所需的距離和定位的光柵區域）和光柵規格（方向、周期、階數）。
需要參數調制的區域必須使用真實(shí)的光柵結構進(jìn)行配置。
足跡和光柵分析工具用于指定光柵參數變化的所需范圍，在光柵相互作用的指定條件下嚴格計算相應的瑞利系數，并生成可以定義實(shí)際參數變化的光學(xué)設置 .
注意：光柵調制是為單個(gè)光柵區域定義的。
4. 打開(kāi)足跡和光柵分析工具并設置光學(xué)裝置
5. 足跡和光柵分析工具
6. 光柵參數和相關(guān)范圍的選擇
• 可以同時(shí)改變一個(gè)或兩個(gè)光柵參數。
• 參數空間的采樣可以相對粗略，因為隨后將在計算點(diǎn)之間應用插值技術(shù)。
• 該表列出了光柵的所有可用參數。 對于在一個(gè)區域內引入調制光柵參數，不允許使用改變光路的參數（如周期等）。
7. 查找表的計算
在配置所需的光柵參數變化后，可以通過(guò)單擊計算查找表來(lái)計算生成的光柵特性并將其存儲在查找表中。
查找表是針對在足跡和光柵分析工具的第一步中確定的光柵參數和 FOV 模式的定義變化計算的。 查找表會(huì )自動(dòng)保存到指定文件夾：
8. 光柵性能的研究
9. 從查找表加載瑞利矩陣
10. 更新光學(xué)系統的產(chǎn)生
11. 光柵調制配置
12. 基于采樣位置或網(wǎng)格的調制
13. 基于解析描述的調制
14. 基于數學(xué)描述的調制
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