元件內部場(chǎng)分析儀:FMM

摘要

                              

 

Field Inside Component Analyzer: FMM使用戶(hù)能夠分析電磁場(chǎng)在微納米結構內部的分布。為此，任意周期結構(包括透射和反射、介質(zhì)或金屬光柵)內的場(chǎng)通過(guò)應用傅里葉模態(tài)方法/嚴格耦合波分析法(FMM/RCWA)來(lái)計算。還可以指定場(chǎng)的哪一部分應該可視化:前向傳播的場(chǎng)、后向傳播的場(chǎng)或兩者都要可視化。

 

尋找元件內部場(chǎng)分析儀:FMM

                        

 

元件內部場(chǎng)分析儀:FMM是光柵光學(xué)設置的專(zhuān)用功能，可提供光柵結構內部電磁場(chǎng)的可視化。

 

評估模式

                                                      

 

為了更容易地區分入射場(chǎng)、反射場(chǎng)和透射場(chǎng)，可以只計算前向或后向傳播模式，或兩者的結合。 



          前向傳播模式                    后向傳播模式             前向和后向傳播模式

 

評估區域                                                     

 

 

光柵類(lèi)型                                                                 

 

元件內部場(chǎng)分析儀可以對任意形狀的光柵結構進(jìn)行分析。這里有幾個(gè)例子。

 

光柵表面采樣

    

 

光柵表面采樣                                                                  

 

對光柵結構進(jìn)行充分的采樣意味著(zhù)采樣效應不應明顯地影響產(chǎn)生的場(chǎng)。例如，如果RCWA層分解太粗糙，則可能會(huì )由于剖面中的大采樣間隔而產(chǎn)生額外的影響。