摘要
元件內部場(chǎng)分析器：FMM允許用戶(hù)可視化和研究微結構和納米結構內部的電磁場(chǎng)分布。為此，使用傅立葉模態(tài)法/嚴格耦合波分析（FMM/RCWA）計算周期性結構（透射或反射、電介質(zhì)或金屬）內部的場(chǎng)。還可以指定場(chǎng)的哪一部分應該可視化：正向模式、反向模式或兩者同時(shí)顯示。
元件內部場(chǎng)分析儀：FMM
元件內部場(chǎng)分析器：FMM是光柵光學(xué)裝置的獨有功能，可提供光柵結構內部電磁場(chǎng)的可視化。
評估模式的選擇
為了更容易地區分入射場(chǎng)、反射場(chǎng)和透射場(chǎng)，可以?xún)H評估正向或反向傳播模式，或者評估兩者的總和。
評價(jià)區域的選擇
元件內部場(chǎng)分析器：FMM可以輸出整個(gè)元件（包括基板）內部的場(chǎng)，或者只輸出一個(gè)堆�；蚧鶋K（基板）中的場(chǎng)。
不同光柵結構的場(chǎng)分布
任意形狀的光柵結構可以通過(guò)元件內部場(chǎng)分析儀進(jìn)行分析。以下是幾個(gè)例子：
光柵結構的采樣
雖然分析儀為輸出數據提供了一些采樣選項，但系統中定義的光柵表面必須正確采樣（例如，分解點(diǎn)和過(guò)渡點(diǎn)的層數足夠）。
分解預覽展示了如何根據當前采樣因子對光柵結構進(jìn)行采樣。
光柵結構的充分采樣意味著(zhù)已經(jīng)實(shí)現了收斂，即進(jìn)一步增加采樣不會(huì )顯著(zhù)影響產(chǎn)生的場(chǎng)。例如，如果層分解過(guò)于粗糙，則可能會(huì )由于縱斷面中的大臺階而產(chǎn)生其他影響。
輸出數據的采樣：一維周期光柵（Lamellar）
對于1D周期性（片狀）光柵，分析儀使用對話(huà)框“采樣”部分中指定的參數生成2D橫截面圖像。
輸出數據的采樣：二維周期光柵
當分析的光柵設置為2D Periodic時(shí)，Field Inside Component Analyzer：FMM將通過(guò)結構生成一系列二元截面，z方向的采樣參數決定執行的切割次數。
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