在許多的光學(xué)系統中主軸的方向被一平面所限制住。VStack是對這一類(lèi)光學(xué)系統特性的計算工具。在vStack中光源是由一條條是光線(xiàn)所組成并透過(guò)系統進(jìn)行進(jìn)跡的工作，所以可以同時(shí)對任何傾斜角度的表面計算反射及穿透。

因為針對多重表面在方向上變化進(jìn)行針算，所以在vStack中是使用生產(chǎn)率(throughput)的方式取代平常使用的反射及穿透系數。生產(chǎn)率(throughput)是來(lái)自光束透過(guò)系統所得到。使用者只需要簡(jiǎn)單的定義表面的順序，表面的角度及反射與穿透等參數。VStack將會(huì )針對此系統所有的入射角度進(jìn)行計算。vStack里面也提供了可調整的入射光束角度，而不需要改變vStack。光學(xué)系統大部份都會(huì )包含一些傾斜的表面，所以就會(huì )顯現出極化的特性。因此橢圓儀(ellipsometeric)的項 及 將會(huì )被計算。使用 及 是因為它們是獨立于表面間距的絕對值。

此類(lèi)幾何結構將會(huì )造成在儀器表面上同時(shí)發(fā)生的p及s極化光。當光束方向為與平面有一傾斜角，透過(guò)skew angle，這個(gè)問(wèn)題就不會(huì )再發(fā)生。一些光線(xiàn)，原本為s極化光從系統射出時(shí)將會(huì )成為p極化光，而一些p極化光將會(huì )成為p極化光。我們稱(chēng)此一效應為極化泄漏(polarization leakage)，其第一階正比于 skew angle。因此我們可以得到一新的效能參數極化泄漏參數(polarization leakage coeffiecinet)，來(lái)描述此一效應。鍍膜設計將會(huì )影向極化泄漏參數，同時(shí)也有可能影向反射及穿透系數，而且此類(lèi)參數為再定義(refinable)之參數在vStack的計算是非常簡(jiǎn)易的，所需要設定的部份只有一道光束。在許多系統中，包含角度，多層膜，分光器。為了讓此類(lèi)系統的參數能夠最佳化，必須進(jìn)行corefinement這項功能。在vStack可利用許多的merit函數來(lái)進(jìn)行自動(dòng)化再調整的工作。

想象我們再設定一個(gè)復雜的vStack，其表面為不同的傾斜表，且其光線(xiàn)為部份反射部份穿透，也許將會(huì )是一項吃力的工作。這種設計很容易的各項表面很容易的被錯誤的安排，使得光束無(wú)法打到正確的位置，或就此消失。為了確定vStack的特色，使其更容易，所以其中提供了一個(gè)圖形工具。這個(gè)自動(dòng)描繪vStack的配置工具，顯示出光線(xiàn)在穿過(guò)系統，其方向及在各表面上之效應。使用此一工具將使建構vStack更為容易。