Simulator是Essential Macleod的新增功能, 可以幫助我們回答這個(gè)問(wèn)題。

光學(xué)薄膜中的公差評定是個(gè)實(shí)際問(wèn)題。沒(méi)有一個(gè)好的、通用的分析技術(shù)。Essential Macleod里的一個(gè)簡(jiǎn)單工具－Errors, 假定所有膜層中的厚度誤差都是隨機的，能夠顯示在許多薄膜中獨立控制命令不可能精確，而用其它的方法確實(shí)能夠構造這些薄膜。實(shí)事上，公差和誤差的影響很大程度上依賴(lài)于控制技術(shù)。通過(guò)將誤差的Monte Carlo近似擴展到控制過(guò)程的實(shí)際模型中去，Simulator解決了公差問(wèn)題。

使用由Runsheet創(chuàng )建的控制設計, Simulator模擬沉積的控制，同時(shí)引入隨機和系統效應，如信號中的噪聲，加工因素的不同，材料密度誤差等等，并且顯示這些參數對最后模擬的薄膜產(chǎn)品的影響。

Simulator比簡(jiǎn)單的監控問(wèn)題回答得更多。所有與薄膜系統有關(guān)的其它的參數都可以轉換成檢查模擬和它們影響的參數。Simulator的結果顯示，在沒(méi)有改變系統中噪聲或精度時(shí)，某一膜層的監控過(guò)程中的一個(gè)小小改變，對DWDM應用的多腔分束器的設計中，能否引起實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)。

注：要Simulator操作正確，Runsheet提高必須也存在。