•對反射和透射監控計算光學(xué)信號

•當膜層沉積時(shí)，動(dòng)態(tài)加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同

•信號數據可以適應自定義范圍

•對每個(gè)膜層，監控波長(cháng)和帶寬都可以改變

•對每個(gè)膜層可以用不同的校驗芯片

•Monitorlink 可以將沉積設計反映到光學(xué)和晶體監控上

•監控數據的圖表可以為手動(dòng)監控打印出來(lái)

Runsheet和Monitorlink特點(diǎn)

RUNSHEET操作

要建立一個(gè)runsheet, 在Essential Macleod中打開(kāi)一個(gè)空白表格, 指定設計和機器配置，然后點(diǎn)Calculate。 Runsheet會(huì )自動(dòng)指定光源、使用加工因子，計算信號。用戶(hù)可以改變所以參數中任何一個(gè)，如指定光源、監控芯片、波長(cháng)、帶寬。點(diǎn)擊Calculate，run sheet立即更新。除了計算機的容量以外，對膜層數、芯片數等沒(méi)有實(shí)際限制。

Runsheet計算信號偏移的表格和曲線(xiàn)。通過(guò)可以應用到單個(gè)膜層的0偏移和放大的控制，可以適應自定義的范圍。根據信號的水平和最后一個(gè)峰－峰偏移的比例，表格中出現膜層終止信息。

直接修改監控參數，所以在實(shí)際沉積以前可以評估不同的監控計劃。Runsheet上的信息還可以拷貝到剪貼板，用于其它的處理和其它應用格式。每個(gè)run sheet存成單獨的文件。重新調用時(shí)，Runsheet 檢查后續的材料數據或機器配置的任何變化，給出適當的警告。

機器配置

生產(chǎn)沉積計劃的第一步是描述鍍膜機，這一步對每臺機器只需要做一次，在Machine Configuration編輯器上輸入。相關(guān)的信息包括機器可以提供的材料和來(lái)源的名稱(chēng), 對光學(xué)監控器, 可以提供的每種不同類(lèi)型的芯片和其光學(xué)參數，監控硬件的有些物理設置的細節；對晶體監控器，晶體控制器的工作單位。在一個(gè)機器配置中，可以同時(shí)存在光學(xué)和晶體監控器。

MONITORLINK

Monitorlink允許Essential Macleod和指定的沉積控制器通信。它將控制器的知識加到Essential Macleod中去, 包括控制器能夠實(shí)際執行沉積程序的能力，也可以將程序裝載到控制器中去。

如果控制器沒(méi)有合適的PC設置程序，則Monitorlink也包括它的設置程序，它可以管理它們之間的通信。對光學(xué)控制器，要求Runsheet enhancement；對晶體控制器，Runsheet enhancement 是可選項。

當Runsheet存在時(shí)，動(dòng)態(tài)加工因子應用到膜層厚度上。沒(méi)有Runsheet時(shí),晶體控制器裝載未修改的設計厚度。因為它們的操作和約束中不同，Monitorlink必須為指定的控制器定做。