在準直系統中模擬干涉條紋

在光學(xué)設計中，適當地考慮不良反應是很重要的。例如，可能發(fā)生在每一個(gè)光學(xué)裝置非鍍膜表面上的多次反射所引發(fā)的鬼像效應，而且其對系統性能的影響也應該被檢測。最近發(fā)布的非時(shí)序擴展，VirtualLab可用于方便地分析影響，正如前面提到的鬼像。通過(guò)靈活的配置每個(gè)表面的通道，以及其他數值參數，可以調整手中系統的模擬，以便分析不同的情況和改變準確度。

 

研究準直系統中的鬼像影響

 

在任何光學(xué)系統中，總有造成鬼像的雜散光。雜散光可能有不同的起源，如不良反射和散射。以大孔徑激光二極管的準直透鏡系統為例。在VirtualLab中由非時(shí)序追跡引擎研究表面之間的反射，多次反射可能導致平行光束的干涉條紋。
 

 

準直光束中由多次反射造成的干涉條紋

 

非時(shí)序配置：如何使用光線(xiàn)和場(chǎng)追跡的模擬設置

 

VirtualLab可以用來(lái)執行光線(xiàn)以及場(chǎng)追跡。數值模擬的控制通常是通過(guò)各種參數規范來(lái)操作。在VirtualLab中這些通常是以準確性因子的形式形成。該文檔解釋了在VirtualLab中使用提供的準確性因子來(lái)控制光線(xiàn)和場(chǎng)追跡引擎，集中在非時(shí)序仿真的設置。

 

最大級：非時(shí)序光線(xiàn)/場(chǎng)追跡

 

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