VirtualLab™ 5.0新版發(fā)布
版本5.0.0
概述：
發(fā)布時(shí)間：2011年6月
升級服務(wù)：要求升級服務(wù)至少到2011年第二季度
安裝：VirtualLab™ 5.0是完全安裝模式，不需要卸載4.0的版本。
VirtualLab™ 5.0提供以下新的特性和增強功能。新的更新指南以及應用案例列在最后一部分。
照明工具箱：LED光整形和均勻化
-照明工具箱使用場(chǎng)追跡分析和設計照明系統，場(chǎng)追跡這個(gè)新概念用來(lái)應用和強調微結構和衍射光學(xué)的集成，使得設計LED光整形和均勻化的緊湊型照明系統更加靈活，以及使其他高度輻射變化的光源照明系統更加方便。
-光斑整形概念是在光柵陣列單元的基礎上提出來(lái)的。這種陣列通過(guò)大量的運算符來(lái)定義。陣列的每個(gè)單元使得光線(xiàn)朝預定的方向傳播，并在目標平面上成像為一個(gè)光斑，所有陣列單元的光斑在一起形成了理想光模式。
-設計算法是用來(lái)設計光柵單元陣列的。所有光柵單元的周期和轉動(dòng)角度是一定的，這樣一階光柵單元分散入射光線(xiàn)到不同的出射方向，一個(gè)理想的光模式就產(chǎn)生了。
-光柵單元陣列的數據用CSV格式和GDSII格式來(lái)描述，來(lái)避免出現離散程度過(guò)大的現象。
-局部線(xiàn)性光柵近似分析器可以提取目前照明工具箱中光路圖的光柵單元陣列的所有光柵參數，并將它們規范化，用作LLGA結果產(chǎn)生器的輸入部分。（見(jiàn)下部分）
-光線(xiàn)追跡模擬用來(lái)分析設計照明工具箱的光路圖。
-在照明工具箱中，相機探測器使場(chǎng)強度可視化，并用作色彩場(chǎng)設置。
光源
-遠場(chǎng)光源被視作一種新的光源，它允許使用包括局部偏振的方法來(lái)定義一個(gè)空間部分相干光源。
-部分相干光源模型是由Mode-Based模式定義的�，F在，這種光源模式中大多數模型的位置以及權重的定義是基于數據（輸入數據）或者可編程的。
光束成形器設計
-現在可以使用一個(gè)簡(jiǎn)單的對話(huà)框來(lái)實(shí)現基于幾何光學(xué)的方法將光傳輸由高斯
型轉換為高帽型。
-新加入了一款折射光束整形編輯器。一些安裝組件的功能可以使用了，包括使高斯光束整形為圓形、矩高帽形或線(xiàn)形。
光柵的模擬與優(yōu)化
-LLGA（Local Linear Grating Approximation）結果產(chǎn)生器可以精確地計算結果（對于Ex-和Ey-方向偏振的各階瑞利參數）。它是由傅里葉模擬方法（FMM）通過(guò)計算一組簡(jiǎn)單光柵得到的。這種光柵由一個(gè)包含周期，旋轉角度，以及入射光線(xiàn)的入射角在內的數據系列定義的。這種數據系列可以由xml匹配文件輸入，或者通過(guò)局部線(xiàn)性光柵分析器得到。
-新添加了用來(lái)分析光柵的偏振分析器。對于給定的波長(cháng)范圍，這種偏振分析器可以完成與偏振相關(guān)的最小或最大值的計算。也可以計算得到Ex-和Ey-方向偏振的全反射或透射的最小或最大值，還能運行類(lèi)似偏振對比度的這種更高級的評價(jià)函數。
-效率分析器和偏振分析器的結果在參數優(yōu)化中可得到。因此，參數優(yōu)化可應用于子波光柵的設計，這種光柵可以作為抗反射結構光柵，或依次修改入射光線(xiàn)偏振。
參數優(yōu)化
-參數優(yōu)化由模擬退火法——一個(gè)全局優(yōu)化算法擴展而來(lái)。這種新的算法可以全局搜索出目標函數的最小值。
參數分析
-參數運行分析功能控制上添加了一些新的模式，這種掃描模式允許等步進(jìn)的全局掃描參數空間。隨機模式中可以應用均勻分布的隨機組合參數，尤其是在Monte Carlo模擬和公差分析中這種分析非常有用。
光學(xué)表面
-所有的光學(xué)表面都允許導入菲涅爾區域。
-對于采樣界面，VirtulLabTM允許用一個(gè)多邊形表面擬合采樣高度值文件，不論是圓柱表面，非球面，還是多邊形面。
數組
-數組的概念已經(jīng)引入。數組用來(lái)存放任何代表圖像的數據，從N維實(shí)空間到M維復空間都可以設計，并可得到一個(gè)有多樣視角的合適的視圖。
-VirtualLab™允許把一個(gè)或多個(gè)位圖、文本文件輸入到一個(gè)有輸入向導支持的數組。不僅包括含有一維或二維實(shí)數數組的.txt和.csv類(lèi)輸入文件，也支持包含如下格式的文件：.bmp, .jpeg, .png, .pcx, .gif.
刪除項目
Spread Sheets（System -> New Spread Sheet）不再支持了，它的菜單欄已被刪除。目前，數據表文件可以被打開(kāi)，在下一個(gè)版本中，這些Spread Sheets將自動(dòng)轉換成一個(gè)Light Path Diagram。
更新指南及應用案例
-指南96.01：照明工具箱（新）。這本指南介紹了照明工具箱的概念以及使用方法，并演示了光柵單元陣列的分析和設計過(guò)程。
-指南101.01：介紹參數優(yōu)化（更新版）。這本指南介紹了VirtualLab™參數優(yōu)化的使用方法。例如，當我們考慮尋找一個(gè)球面鏡的焦點(diǎn)時(shí)。
-案例246.01：鍍膜正弦光柵（更新）上的衍射光精確模擬。這個(gè)例子演示了鍍膜正弦上的模擬，并說(shuō)明了鍍膜上所有反射規則下的總效率。
-案例315.01：一個(gè)光柵偏振的參數優(yōu)化（新）。這個(gè)應用案例展示了用于VIS入射光偏振的矩形柵格參數優(yōu)化過(guò)程。為此，調制深度和光柵縫寬需要調整，以在波長(cháng)為450nm~800nm的光線(xiàn)傳播中得到最大的TE偏振值和最高偏振對比度（大于50）的最佳參數組合。
-案例307.01：整形為圓形高帽狀的折射光源的參數優(yōu)化（新）。這個(gè)例子論證了折射光束成形編輯中光束成形系統的建立。結果產(chǎn)生系統中的光學(xué)性能可以通過(guò)VirtualLab™的參數優(yōu)化功能來(lái)改善。
-案例317.01：將LED光整形為交叉模式過(guò)程中的光柵設計和分析（新）。這種應用案例論證了照明系統中LED光整形為交叉光模式的分析和設計，這種整形是通過(guò)一個(gè)光柵單元陣列來(lái)實(shí)現。
-技術(shù)要點(diǎn) 010：編程參考（更新）。這個(gè)技術(shù)要點(diǎn)描述了VirtualLab™如何由模式和代碼來(lái)定制，同時(shí)也描述了語(yǔ)法。它包括VirtualLab™的編程參考。
-技術(shù)要點(diǎn) 021：VirtualLab™中的參數優(yōu)化（更新）。這個(gè)技術(shù)要點(diǎn)介紹了VirtualLab™中參數優(yōu)化的使用方法，它描述了算法背景，尤其是目標函數如何定義以及限定條件如何處理。
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