Essential Macleod新版本12.6更新內容

Essential Macleod 12.6新版本已經(jīng)正式發(fā)布，更新內容如下：

Core

1. 現在可以隨時(shí)訪(fǎng)問(wèn)“厚層設計”的偏振選項，在此之前，當使用入射角列表時(shí)，偏振選項無(wú)法更改。

2. 散射工具（scattering tool）現在可以計算BRDF/BTDF以及角分辨散射。

3. 在散射工具中添加了散射積分計算�？偵⑸浞e分是角分辨散射在反射半球和透射半球上的積分。為方便起見(jiàn)，反射半球和透射半球的散射積分是分開(kāi)提供的。

4. 現在，Essential Macleod可以讀取日立光譜儀生成的udss文件。Essential Macleod將帶有udss擴展名的文件假定包含日立格式的數據，并自動(dòng)解碼。

5. 反演工程（Reverse Engineer）現在支持在不同基板上進(jìn)行測量。每個(gè)測量頁(yè)面都可以指定用于測量的基板。如果基板為空白，就會(huì )調用“設計”（Design）頁(yè)面的基板。

6. 現在的設計可以導出使用于Synopsys的LightTools軟件。使用File>Export>LightTools來(lái)導出數據

 

Runsheet

1. Runsheet現在可以導出一個(gè)設計文件，該文件包含在Runsheet中使用的監測芯片的預期厚度。選擇要導出的包含芯片的層（或該芯片上的一個(gè)層），然后使用File>Export>Chip Design來(lái)創(chuàng )建設計。