VirtualLab 5.4
更新時(shí)間：2012.9
更新服務(wù)：2012年第三季度的需要
安裝：在5.0或5.x.x的版本上安裝更新
光柵模擬
光柵分析方面有幾個(gè)性能的改進(jìn)。這包括并行生成的過(guò)渡點(diǎn)和其他的傳輸點(diǎn)。因此，可以大幅度減少90%的計算時(shí)間或更多（具體數值依據具體應用）。
在光柵效率分析器中，衍射效率低于用戶(hù)自定義閾值的級次可以設置為0了。這會(huì )影響衍射效率和瑞利系數。
增加了一個(gè)選項來(lái)控制在零級產(chǎn)生的線(xiàn)性相位是否在光柵場(chǎng)內部分析器的結果中顯示。
光柵場(chǎng)內部分析器允許調整顯示區域，并允許對多個(gè)周期進(jìn)行探測分析。
光柵場(chǎng)內部分析器的算法進(jìn)行了修訂。它現在的速度更快，同時(shí)允許對光柵內部的磁場(chǎng)進(jìn)行計算。
分解預覽按鈕允許調整在X方向上的取樣信息。
對非垂直的入射波，由FMM計算出的衍射級次的數目已經(jīng)被優(yōu)化了。
視圖和數據數組
在光學(xué)系統和元件的3-D視圖中增加了一個(gè)長(cháng)度比例。
現在更多的插值法可以應用到數據數組中。一個(gè)位圖序列（可以輸出為AVI格式視頻）可以從由幾個(gè)子集組成的數據數組生成。
增加了把數據數組轉換成諧波場(chǎng)的功能。
一些操作的啟用使得數據陣列包括重新采樣和子集訪(fǎng)問(wèn)的功能。同時(shí)，提供了一些新的探測器（最大值、最小值）。
光學(xué)表面
引入定義光學(xué)表面離散的高度水平（量化）的幾個(gè)模式。這樣，定義好的高度輪廓可以適用于不同的生產(chǎn)流程。
照明工具箱
局部線(xiàn)性光柵分析器現在可以處理不同波長(cháng)和橫向模式的遠場(chǎng)光源。而且，它將記錄仿真的時(shí)間。
改進(jìn)了具有光柵陣列的光學(xué)系統的性能和模擬精度。
現在的光柵單元格陣列制造輸出允許為csv格式的十進(jìn)制數和列分隔符。
參數運行
顯示物理單位的屬性現在被放到參數運行、優(yōu)化和迭代文檔中去了。
現在，合成輸出如諧波場(chǎng)設置一樣把諧波場(chǎng)設置結果結合在一起了。
參數運行允許改變由當前光路元件定位類(lèi)型指定的角度。
對于激光諧振腔的分析，現在可以改變入射波長(cháng)了。
處理
現在可以通過(guò)檢查更新菜單項檢查VirtualLabTM是否有更新。
在界面編輯對話(huà)框中顯示錯誤消息的方式得到改進(jìn)。
現在可以直接對鍍膜層和材料進(jìn)行編輯了。
現在允許通過(guò)源代碼的快捷菜單來(lái)打印編程的模塊和片段了。
在主菜單中的一些項目和在光路樹(shù)性菜單都采取按字母順序排列。
光源
組合光源允許從多個(gè)光源類(lèi)型中選擇光源，包括了可編程和存儲場(chǎng)光源。
Zemax文件的輸入
從Zemax中輸入的波長(cháng)現在被認為是定義在空氣中的波長(cháng)。為此，存儲在Zeamx文件中環(huán)境參數（溫度和壓強）會(huì )被考慮進(jìn)去。
新增加并且更新了教程和應用案例
案例500：設計反射性的擴散器（新增）。這個(gè)應用案例演示的是設計和分析一個(gè)微結構化的鏡面來(lái)產(chǎn)生一個(gè)擴散角分布。
案例 385.01：高數值孔徑的位圖擴散器的優(yōu)化（新增）。這個(gè)應用案例演示了設計和分析一個(gè)高數值孔徑的衍射光學(xué)元件創(chuàng )建一個(gè)不畸變的網(wǎng)格位圖。
其他的幾個(gè)應用案例也已經(jīng)更新了。
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