VirtualLabTM新版本5.5使用場(chǎng)追跡在光學(xué)建模方面提供了前所未有的便利性。新版本允許添加自定義的建模技術(shù)，這提供了最靈活和最有效的場(chǎng)追跡體驗，用戶(hù)定義的解是基于編程光源，元件和探測器，這些能夠在一起使用的建模解已經(jīng)在VirtualLabTM中發(fā)布。
同時(shí)編程光源，元件和探測器也打開(kāi)了一扇令人興奮的商業(yè)概念的大門(mén)：LightTrans鼓勵工作在R&D光學(xué)建模領(lǐng)域的專(zhuān)家和同事，將他們感興趣的并且能夠完成場(chǎng)追跡的物理光學(xué)技術(shù)作為VirtualLab編程元件補充進(jìn)來(lái)。LightTrans將提供和販售這些場(chǎng)追跡的解，作為VirtualLab的拓展技術(shù)，所得利潤將大部分給這些解的開(kāi)發(fā)者。
除了新的特性以外，版本5.5允許將用戶(hù)使用C#和MATLAB編程技術(shù)定義模型整合起來(lái)。這最終使得任何VirtualLab的用戶(hù)都能從場(chǎng)追跡技術(shù)中受益。
發(fā)布日期：2012年12月20日
更新服務(wù)：2012年第四季度要求
安裝：Virtuallab5.0或5.0.x,5.1.x,5.2.x,5.3.x,5.4.x版本上安裝即可
通過(guò)編程自定義建模
可編程元件：場(chǎng)追跡理論允許在仿真時(shí)實(shí)現不同建模技術(shù)的結合。使用編程元件，可以把用戶(hù)通過(guò)MATLAB®或C#自定義的建模技術(shù)和VirtualLab提供的解決方案結合在一起。在編程元件里，用戶(hù)可以直接訪(fǎng)問(wèn)輸入場(chǎng)和要計算的輸出場(chǎng)。相關(guān)的幾個(gè)例子已經(jīng)添加到元件庫里。
可編程探測器：VirtualLab提供了在任意探測面的全場(chǎng)量信息�？删幊烫綔y器允許對用戶(hù)任何自定義的方程進(jìn)行評估。
MATLAB®的集成：LightTrans了解到VirtualLab的許多用戶(hù)都在開(kāi)發(fā)自己的建模技術(shù)，而這些技術(shù)大部分都是用MATLAB®編寫(xiě)的�，F在可以通過(guò)MATLAB R途徑直接來(lái)訪(fǎng)問(wèn)可編程對象的程序。
現在可以在MODULE VIEW中直接編輯引用的DLL了。
激光諧振腔
VirtualLab5.5現在可以仿真非穩腔了。
光源和探測器
具有太陽(yáng)光譜的光源已經(jīng)添加到光源庫。
把其他元件（Other Components）從探測器選單里給刪除了。它已經(jīng)過(guò)時(shí)了，因為我們得到了新的、單獨的探測器來(lái)對坡印廷矢量、電場(chǎng)和磁場(chǎng)進(jìn)行評估。
視圖和數據數組
數據數組增加了新的操作，包括給定復制次數來(lái)進(jìn)行周期性的復制，不基于取樣和坐標軸范圍的數據合并。
所有的2D數據數組都可以進(jìn)行3D顯示了。
時(shí)域轉換：帶一個(gè)子集的數據數組能夠進(jìn)行時(shí)間取樣了。
數值型數組可以復制到寫(xiě)字板了。
只有一個(gè)子集的2D數值型數組可以分解成一維數值型數組。
數據數組的輸入向導現在允許用戶(hù)自定義數組的規格或在零點(diǎn)附近的中心坐標范圍。
數字數據數組提供了一個(gè)新的標簽頁(yè)，可以通過(guò)插值方法顯示任意坐標處的數值。
在數據數組表格的單元表格中可以定義最大數的上限了。
現在在預覽堆棧（Stacks）和光學(xué)序列界面（OIS）時(shí)，可以對Z-X面（默認）和Z-Y面進(jìn)行切換了。
參數運行
參數運行現在有新的、特殊的對數據數組的組合輸出，且產(chǎn)生的組合輸出也得到了改進(jìn)。
現在可以對參數運行里的參數選擇的項進(jìn)行分組了。
輸入
現在沒(méi)有指定庫文件的Zemax文件可以正確的導入到VirtualLab里去了。
設計和優(yōu)化
多模光源現在可以應用到參數優(yōu)化里去了。例如，這就使得VirtualLab可以解決多色設計的問(wèn)題了。
材料和介質(zhì)
在材料庫里添加了X射線(xiàn)材料。
現在在編輯材料時(shí)，可通過(guò)編程輸入材料的色散公式和吸收系數。
可編程的介質(zhì)允許使用一系列的介質(zhì)，這些都可以再編輯對話(huà)框中設定。
材料庫中新增加兩個(gè)模板：一個(gè)是通過(guò)阿貝常數Vd來(lái)定義材料，另一個(gè)通過(guò)取樣n-k-數據來(lái)定義材料。
雙端面型元件和結構設計
結構設計后的取樣表面的取樣距離用來(lái)設定通過(guò)衍射光學(xué)表面傳輸的取樣參數。
雙端面型元件的傳輸參數在參數運行里的一致性使用：增加了對于界面傳播的取樣距離和取樣點(diǎn)的其他參數的設置。
試用版
基于支持的目的，試用版現在可以保存設計好的光學(xué)路徑圖了。存儲好的文件不能再次在試用版中打開(kāi)。試用的客戶(hù)必須把文件發(fā)到support@infotek.com.cn。 我們能從系統中提取信息確保對試用客戶(hù)的一個(gè)合格和有效的技術(shù)支持。
操作處理
理想材料：理想的高吸收的材料被存儲到材料庫里，并命名為Ideal High Reflectance Material，讓用戶(hù)更快找到。
現在物理傅里葉變化時(shí)可以應用的（除了數值傅里葉變換）。它使用的是物理縮放來(lái)保持場(chǎng)的功率。
取樣表面現在可以通過(guò)數據數組而不是圖表來(lái)定義了。
現在可以通過(guò)光學(xué)序列表面工具（OIS Tools）來(lái)同步光學(xué)序列表面的所有光學(xué)鍍膜。
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