LightTrans VirtualLabTM的持續完善——LightTrans VirtualLabTM 提供更多擴展功能，更易上手，性能更加卓越
VirtualLabTM正在持續擴展并完善。每年數次的新版本發(fā)布保證了VirtualLabTM的用戶(hù)能立刻從這個(gè)平臺的發(fā)展中受益。對于提升用戶(hù)的便捷性和舒適度，改善數值性能，解決光學(xué)建模中的問(wèn)題以及在適應現代計算機體系結構方面，使用LightTrans在VIrtualLabTM工具箱提供的更新服務(wù)都是非常有用的。
5.10版本的更新功能
參數運行模擬系列實(shí)驗
改進(jìn)的參數運行定義了針對公差和優(yōu)化的實(shí)驗系列，這對于用戶(hù)來(lái)說(shuō)會(huì )更加舒適方便，對結果緩存方式的改進(jìn)使得運算速度大大提升。
部分相干光模擬
VirtualLab提供了基于模式模型的合理方法進(jìn)行時(shí)域和空域的部分相干光建模，通過(guò)高效方法以及并行處理急劇加速了模式的處理過(guò)程。
元件定位更加靈活
光學(xué)元件的位置和方向定義更加自由，包括傾斜、偏離，以及公差分析和優(yōu)化中的使用。
高效地追跡引擎
包括場(chǎng)追跡和光線(xiàn)追跡的追跡引擎又有了進(jìn)一步的擴展。作為系統一部分的光柵的嚴格模擬是其中一個(gè)例子
光束整形以及圖形生成
添加了單色光以及白光LED整形的新設計方法。添加了新的輸出格式.STL和.TIFF。
數據查看更方便
VirtualLab對于數據和數據矩陣的顯示、操作以及定值提供了新的選項，包括動(dòng)畫(huà)中的數據。
用戶(hù)自定義建模
VirtualLab.Programming用戶(hù)可在可編程界面上添加自己的建模技術(shù)，這使得場(chǎng)追跡更加靈活。
飛秒和阿秒的時(shí)域空域建模
飛秒阿秒的展寬壓縮、聚焦整形的建模已經(jīng)添加到5.8-5.10版本中。阿秒脈沖建模中會(huì )使用X光的色散關(guān)系。
黑匣子元件保護知識產(chǎn)權
新添加的黑匣子元件可以使光學(xué)供應商提供給客戶(hù)一個(gè)VirtualLab建模的加密元件
建模情況易跟蹤
場(chǎng)追跡對交叉學(xué)科的建模任務(wù)提供了高度靈活性，對于每一步的計算情況VirtualLab都有詳細的日志記錄。
關(guān)于光學(xué)建模設計中的需求和技術(shù)問(wèn)題，我們誠邀您的探討。
VirtualLabTM5．10把主要精力投入在了照明工具箱，改善了光束整形理念，使照明工具箱功能更強大。反射和折射整形元件可以在照明工具箱中使用，并且在設計分析復雜的光學(xué)系統過(guò)程中允許添加其他光學(xué)元件。
另外使用場(chǎng)追跡的概念進(jìn)行光學(xué)建模性能得到了改善，包括坐標系的巧妙處理以及傳播過(guò)程中分析參數的使用更加統一。
數據矩陣以及面對對象的數據矩陣的可視化有了極大改善，并開(kāi)發(fā)了一維和二維數據的內容選擇工具。
詳情如下：
1、 照明工具箱
支持使用反射和折射整形元件，通過(guò)陣列反射鏡及陣列棱鏡實(shí)現。
對于反射和折射整形元件可以將其結構輸出為txt文件及CAD格式，輸出至CAD中由STL實(shí)現，包含結構規劃及邊界擠壓。
可以建立復雜光學(xué)系統，輸出結果由camera detector觀(guān)察。
基于照明工具箱設計算法的元胞陣列可以使用隨機生成來(lái)復現結果。
基于光束整形元件的元胞陣列的設計過(guò)程中，需要考慮到生產(chǎn)加工約束條件。
LLGA結果發(fā)生器可以自動(dòng)計算一階平均效率。
2、 參數運行
參數運行停止后再繼續運行新的循環(huán)計算時(shí)，中間結果不會(huì )丟失，就是說(shuō)參數運行可停止可繼續，不用重頭再來(lái)。
參數運行處理計算過(guò)的結果會(huì )更高效，定義沒(méi)有合適結果的循環(huán)也會(huì )運行。
所有循環(huán)完成后可以自動(dòng)保存結果，并且能強制關(guān)閉會(huì )話(huà)窗口。
參數運行的參數可視圖表可以選擇是否顯示物理單位。
添加了所有光源的更多參數。
3、 位置/公差
公差改名為孤立地位（isolated positioning），會(huì )話(huà)框中的位置也做了調整。
恒等算子和坐標中斷面可在4π空間中自由定義。
4、 光路流程圖
連接兩個(gè)元件的標準流程圖允許選擇瑞利-索末菲卷積和瑞利-索末菲求和算子。
擴展的日志會(huì )記錄下光路流程圖的內在傳播邏輯，包括傳播算子的完成步驟的擴展記錄。
新日志標準加入到光路日志當中，因此可以查看并選擇雙界面元件（DIC）內的自動(dòng)傳播算子的選項。
新的光路流程圖工具可以將一個(gè)元件加入到已經(jīng)創(chuàng )建的光學(xué)界面序列（OIS）。
5、 傳播
在之前的VirtualLabTM版本中，諧波場(chǎng)集的所有子場(chǎng)都必須在一個(gè)坐標系中定義，在5.10版中這個(gè)限制已經(jīng)去除。這使得光路流程圖性能更優(yōu)，模擬也能更一致。
傳播算子做了調整，使得到下一個(gè)傳輸面上的場(chǎng)計算更加優(yōu)化，這保證了諧波場(chǎng)集的每個(gè)子場(chǎng)都會(huì )被單獨計算。
大多數理想元件可通過(guò)解析地定義入射光坐標系來(lái)處理橫向偏移。線(xiàn)性相位算子也能解析地處理場(chǎng)的方向。
真實(shí)元件可以解析地處理橫向平移，傳播技術(shù)的選擇明確了是否能解析地解決平移。
采用光線(xiàn)追跡時(shí)，光線(xiàn)數量可以自由定義。
對一些理想元件可以進(jìn)行光線(xiàn)追跡，會(huì )將理想化效果應用于入射光束上，例如線(xiàn)性相位、球面相位、分束器等等。
用戶(hù)可以在光線(xiàn)束追跡模擬時(shí)選擇探測器。
光路長(cháng)度由光線(xiàn)束追跡決定，在脈沖評估探測器和光路長(cháng)度分析儀中會(huì )使用光路長(cháng)度信息。
6、 光源
所有光源在優(yōu)化坐標系下產(chǎn)生輸出信號，包括橫向平移值及部分相干光源的平移模位置。對于平面波光源的方向也會(huì )做解析處理。
引入了對產(chǎn)生非單一諧波場(chǎng)的光源新的處理選擇項，用戶(hù)可以明確只選擇用光源的其中一個(gè)模式，用戶(hù)還可以通過(guò)選擇橫移序號及光譜序號來(lái)指定產(chǎn)生哪個(gè)模式。
7、 元件
新的黑匣子元件可以讓用戶(hù)對指定的子系統進(jìn)行加密。黑匣子元件可以用于在不泄露安全IP的情況下發(fā)送用戶(hù)的光學(xué)系統。
子系統元件可以用于打包一套定義好的LPD相對應的光路編輯界面（LPE），這個(gè)技術(shù)對于VL5.10解決棱鏡問(wèn)題來(lái)說(shuō)非常有必要。
一個(gè)新的理想元件可通過(guò)用一個(gè)子系統的ABCD矩陣來(lái)定義該子系統。
用戶(hù)可以定義一個(gè)固定到場(chǎng)尺寸和采樣（field size and sampling）這樣一個(gè)光路元件的輸入傳輸面。
OIS預覽會(huì )顯示指定介質(zhì)的折射率。
在OIS/Stack的標注行界面會(huì )在圖示中呈紅色。
可定義隨機元胞/散斑型擴散器的種子。 |
