活性材料模擬 VirtualLab與Simphotek SimphoSOFT模型一體化集成

線(xiàn)性與非線(xiàn)性光學(xué)傳播和無(wú)源與有源器件的精確模擬需要既能滿(mǎn)足合成光學(xué)材料的靈活性又能滿(mǎn)足儀器光學(xué)元件的建模能力。許多光敏材料有復雜的能級圖和多種光學(xué)躍遷，包括受激發(fā)射、能量轉移和多光子吸收。對于激光和放大器的模擬，需要統一考慮其他光學(xué)元件的材料性質(zhì)、光學(xué)參數，來(lái)計算系統的本征模和增益。多光子和超高分辨率顯微鏡建模都會(huì )涉及到顯微鏡光學(xué)元件的模擬和聚焦光束與材料的相互作用。

SimphoSOFT 與VirtualLab的集成為無(wú)源與有源器件的模擬設計提供了無(wú)限靈活性。SimphoSOFT模塊集中在光與增益介質(zhì)或高吸收材料的復雜的非線(xiàn)性相互作用，而VirtualLab 為器件建模提供了有力的場(chǎng)追跡設計工具。

 

 性能與光學(xué)增益優(yōu)化

 材料能級沒(méi)有限制

 材料光學(xué)躍遷無(wú)限制

 透鏡，反射鏡和其他元件

 本征模計算

 能級粒子數模擬

 

工作介質(zhì)模塊，可以用來(lái)設計：

 放大器

 激光

 環(huán)形諧振腔

 多光子顯微鏡

 超高分辨率顯微鏡

 

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