建模目的：如何將矩形光柵界面和轉變點(diǎn)列界面(Transition Point List Inerface)進(jìn)行組合，以構建復雜結構光柵，并進(jìn)行近場(chǎng)分析和內部場(chǎng)分析
工具箱：光柵工具箱
關(guān)鍵詞：矩形光柵界面 轉變點(diǎn)列界面 近場(chǎng)分析 內部場(chǎng)分析
組合光柵結構參數：
圖1：光柵參數示意圖
使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模
1) 操作如下圖(1)(2)：解決方案(Solutions)/光柵工具箱(Grating Toolbox)/二維光柵仿真(2D Grating Simulations)/自定義光柵光路流程圖(General Grating Light Path Diagram)，生成光柵光路圖, 如下圖(3)
(1)
(2)
(3)
圖2：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟1)示意圖
2) 雙擊  ，進(jìn)入光柵編輯窗口(Edit General Grating 2D)/結構與功能子窗口(Structure/Function)，確定基板材料和厚度，并選擇堆棧界面。
圖3：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟2)示意圖
3) 進(jìn)入堆棧界面，即堆棧編輯窗口(Edit)，通過(guò)添加(Add)按鈕依次添加平面(Plane Interface)，矩形光柵界面(Rectarngular Grating Interface)以及轉變點(diǎn)列界面(Transition Point List Interface)以構建矩形組合光柵。
(1)
(2)
(3)
圖4：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟3)示意圖
4) 點(diǎn)擊  ，進(jìn)入矩形光柵編輯窗口(Edit Rectangular Grating Interface)，輸入光柵一的結構參數，并將其位置橫向移動(dòng)(Lateral Shift)1 µm，如下圖所示
圖5：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟4)示意圖
5) 點(diǎn)擊  ，進(jìn)入轉變點(diǎn)列界面(Transition Point List Interface)編輯窗口(Edit Transition Point List Interface)，輸入光柵二和光柵三兩種光柵結構參數：
(1) 通過(guò)點(diǎn)擊添加數據(Add Datum)增加轉變點(diǎn)(transition points)，并給該點(diǎn)對應的橫向位置(x-Position)和高度(Height)賦值，以形成所需轉變點(diǎn)序列。
(2) 按照圖6(2)所示設置所有轉變點(diǎn)，然后將插值方法(Interpolation Method)設置為常量區間(Constant Interval)。將橫向區域上限(Upper Limit)設置為2 µm，并設置大小與形狀(Size and Shape) 為2 µm x 2µm 長(cháng)方形(Rectangular)。
(3) 進(jìn)入周期化標簽(Periodization)，選擇使用周期化設置(Use Periodization)，并將周期設置為2 µm x 2µm�？捎^(guān)察到z-方向，即高度方向最小值(Boundary Minimum)為-800 nm。
(1)
(2)
(3)
圖6：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟5)示意圖
6) 將平面與矩形光柵界面距離設置為0，矩形光柵界面（光柵一）與轉變點(diǎn)列界面（光柵二和三）之間的距離設置為800 nm，并將堆棧周期(Stack Period)設置為2 µm，如下圖所示：
圖7：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟6)示意圖
7) 設置光學(xué)界面后的介質(zhì)類(lèi)型(Subsequent Medium)，點(diǎn)擊  ，進(jìn)入材料庫，分別將Cr和TiO2介質(zhì)分別用于矩形光柵界面（光柵一）和轉變點(diǎn)列光柵界面（光柵二和光柵三）之后，設置方法如下圖。
(1)
(2)
圖8：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟7)示意圖
8) 在堆棧界面觀(guān)察組合光柵的剖面圖以及點(diǎn)擊  觀(guān)察其3D視圖
(1)組合光柵剖面圖
(2)組合光柵3D視圖
圖9：使用VirtualLab光柵工具箱進(jìn)行建模步驟8)示意圖
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