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      用于A(yíng)R/MR的光波導足跡分析
      時(shí)間:2022-03-15 20:48來(lái)源:訊技光電作者: 技術(shù)部點(diǎn)擊:次打印
      摘要
       
      用于增強或混合現實(shí)應用的任何類(lèi)型的光導系統,其設計過(guò)程中的一個(gè)主要部分是用于輸入耦合器、輸出耦合器和出瞳擴展器光柵區域的配置。為此,對光傳播以及發(fā)生的光柵相互作用進(jìn)行快速而簡(jiǎn)單的概述非常有幫助:足跡分析。借助足跡和光柵分析工具,VirtualLab提供了一個(gè)強大的工具,可在此過(guò)程中為光學(xué)工程師提供支持。在本文檔中,討論了這個(gè)多功能工具的選項和功能。

       
      足跡和光柵分析工具
      足跡和光柵分析工具是光導工具箱黃金版的一個(gè)特色。
      它可以在開(kāi)始功能區的光導部分進(jìn)行初始化。

       
      操作工具的基本流程

       
      步驟1:選擇要分析的設置。它可以通過(guò)布局設計工具生成,詳見(jiàn):
       
      光導布局設計工具
       
      但是請注意,足跡和光柵分析工具并不局限于特定的布局類(lèi)型。您可以加載文件或直接從已經(jīng)打開(kāi)的文檔中選擇一個(gè)文件。

       
      步驟2:定義該工具應該考慮的視場(chǎng)范圍。
      步驟3:?jiǎn)螕舴治霭粹o。關(guān)于分析進(jìn)度的詳細信息將在按鈕下方的面板中提供。
       
      理想和實(shí)際光柵結果
       
      足跡和光柵分析工具的結果可以分為兩個(gè)方面:

       
      相互作用的足跡數據

       
      相互作用的足跡數據文檔提供了一個(gè)所有光束足跡打到一個(gè)給定的光柵區域的彩色編碼插圖,配置視場(chǎng)(FOV)的不同模式有不同的顏色。用戶(hù)可以選擇在圖中顯示的視場(chǎng)模式。
      注意
      如果 VirtualLab Fusion記錄了部分入射光束,則取決于基本光路中的“通道分辨率精度”設置。
      無(wú)論這個(gè)區域的光有多小或如何調制,該顯示都不會(huì )區分,并且將始終描繪完整的、相同大小的足跡圓。
       
      中央視場(chǎng)的數據

       
      傾斜視場(chǎng)模式數據

       
      熱圖文檔

       
      足跡原始數據文檔

       
      原始數據結果描述了每種視場(chǎng)模式下每個(gè)足跡的中心位置。
      這一信息可用于確定相互作用的數量,并可作為在需要創(chuàng )建具有調制功能的光路時(shí)考慮適當支撐點(diǎn)數量的基礎。后者在用例“光導上的光柵分析和光柵參數的平滑調制”中有更詳細的解釋。
       
      文件信息


       
      延伸閱讀

      - 光導上的光柵分析和光柵參數的平滑調制
      - 光導的結構
      - 具有光導元件的“HoloLens 1”型布局的建模
      - 光導布局設計工具
      - k域布局可視化
      - 具有1D-1D光瞳擴展器和真實(shí)光柵的光導模擬
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