摘要
在半導體工業(yè)中，晶片檢測系統被用來(lái)檢測晶片上的缺陷并找到它們的位置。為了確保微結構所需的圖像分辨率，檢測系統通常使用高NA物鏡，并且工作在UV波長(cháng)范圍內。作為例子，我們建立了包括高NA聚焦和光與微結構相互作用的完整晶片檢測系統的模型，并演示了成像過(guò)程。
任務(wù)描述
通過(guò)在堆棧中定義適當形狀的表面和介質(zhì)來(lái)模擬諸如在晶片上使用的周期性結構的柵格結構。然后，該堆�？梢詫氲礁鞣N不同的組件中，具體取決于預期用途。在這種情況下，我們將堆棧加載到一般光學(xué)設置中的一個(gè)光柵組件中，以便模擬整個(gè)系統。有關(guān)詳細信息，請參閱：用于通用光學(xué)系統的光柵元件
微結構晶片的角度響應
該光柵組件使用傅里葉模態(tài)法(FMM)，也稱(chēng)為嚴格耦合波分析(RCWA)，其運作在k域中。當入射大NA光束時(shí)，需要考慮在k域中有足夠數量的采樣點(diǎn)來(lái)解決角度敏感效應。在光柵組件的求解器區域中，用戶(hù)可以輕松地調整此參數，以確�？焖俣鴾蚀_的模擬。
大NA物鏡
Lens System Component允許輕松定義由光滑表面和均勻、各向同性介質(zhì)的交替序列組成的組件。在界面和材料方面，可以從內置目錄中選擇現成的條目，也可以定制自己的條目，以實(shí)現最大的靈活性。
通用探測器和探測器插件
通用探測器可以評估入射場(chǎng)，并通過(guò)所謂的附加組件計算各種物理量。作為結果，所提供的附加組件之一提供了空間域中的輻照度。有關(guān)詳細信息，請參閱：通用探測器
非序列追跡
將通道配置模式切換設置為手動(dòng)配置后，用戶(hù)可以為系統中的每個(gè)表面指定要為模擬打開(kāi)哪些通道。當運行模擬時(shí)，將執行活動(dòng)光路的初步分析(通過(guò)所謂的光路查找器)。然后，引擎將沿著(zhù)這些光路追跡磁場(chǎng)，直到系統中的探測器。
用于非序列追跡的通道設置
總結-組件
系統印象
場(chǎng)追跡結果
結果的非對稱(chēng)
光柵的非對稱(chēng)性也導致干涉中的輕微不對稱(chēng)性�？梢栽诮Y果中識別光柵是否鏡像，結果也將顯示為鏡像。
VirtualLab Fusion技術(shù)
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